Category:Reactive-ion etching

<nowiki>反応性イオンエッチング; gravure ionique réactive; 反應離子刻蝕; реактивне іонне травлення; 反应离子刻蚀; Реактивное ионное травление; Gravat d'ions reactius; Plasmaätzen; ICP-RIE; Reactive-ion etching; فرایند سونش; 反应离子刻蚀; 反應離子刻蝕; és una tecnologia de gravat utilitzada en la microfabricació.; технологія видалення матеріалу підкладки в мікроелектроніці за допомогою хімічно активної плазми; technique de gravure sèche des semi-conducteurs; RIE; RIE; Reactive-ion etching; gravure par ions réactifs; 反應性離子蝕刻; Plasma-Ätzen; reaktives Ionenätzen; RIE-Prozess; Plasma-unterstütztes Ätzen; Reaktives Ionenätzen; Reactive Ion Etching</nowiki>